Dr. Patrick Rapp besucht OWIS
Der Staatssekretär im Ministerium für Wirtschaft, Arbeit und Tourismus war zu Gast bei OWIS GmbH in Staufen.
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Positiver Ausblick mit Grill ‘n Chill
Gemeinsame Zeit nicht nur mit den Mitarbeitenden, sondern darüber hinaus mit allen Familienangehörigen verbringen. Das war längst überfällig nach mehr als zwei Jahren Corona-Zwangs-Pause. Darüber hinaus informierte Geschäftsführer Rüdiger Ruh die gesamte OWIS Belegschaft über die momentan sehr positive Situation bei OWIS.
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Energiewende? OWIS ist dabei!
OWIS optimiert CO2 Bilanz weiter - Investition in Photovoltaikanlage
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...und Wegweisendes erfahren:
Kommende Veranstaltungen
Mittweidaer Laser Users' Meeting
18. - 19. Juni 2025
Hochschule Mittweida
Technikumplatz 17
SPIE Photonics West Exhibition 2025
28. – 30. Januar 2025
The Moscone Center, San Francisco
USA
Stand-Nr.: 4635
Vertreten durch:
OWIS GmbH und Pacific Laser Equipment (USA)
Applikationsberichte
OWIS Positioniersysteme in der digital- holographischen 3D-Messtechnik
Die digital-holographische 3D-Messtechnik ermöglicht die schnelle und gleichzeitig hochpräzise Messung der Bauteiloberfläche. Zur Positionierung der Bauteile verwendet das Fraunhofer-Institut für Physikalische Messtechnik IPM zwei direktangetriebene Linearachsen LINPOS von OWIS.
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Großflächige 3D-Oberflächenprüfung mit Weißlichtinterferometrie
Für die Gesellschaft für Bild- und Signalverarbeitung (GBS) mbH haben wir ein kundenspezifisches Portalsystem entwickelt, das auf einem Arbeitsraum von 1.250 mm x 550 mm x 45 mm sowohl ein präzises Anfahren einzelner Messpunkte als auch das Scannen der gesamten Oberfläche ermöglicht.
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Aufbau zur Bestimmung atomarer Abstände
An der TU Berlin gelang es der Arbeitsgruppe „Analytische Röntgenphysik“ von Prof. Dr. Birgit Kanngießer eine Methode zu entwickeln, die das Licht einer Röntgenröhre effizient nutzt und mit geringem Brillanz-Verlust auf einen Detektor leitet. So lassen sich Messungen zur Bestimmung atomarer Abstände auch in kleineren Laboren durchführen. OWIS Positioniersysteme vereinfachen die Bedienung dabei entscheidend.
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Festphasen-Fluorospektrometer
Die Fluoreszenzspektroskopie nutzt Fluoreszenz-Phänomene zur Analyse von Substanzen. Sie unterscheidet sich von einigen anderen Spektroskopien, indem sie die Emission anstatt der Absorption der fluoreszierenden Strahlung misst. Das Forschungsinstitut „wfk – Cleaning Technology Institute e.V.“ in Krefeld untersucht beispielsweise Anschmutzungen auf Stoffoberflächen, um fluoreszenzmarkierte Bakterien zu erfassen. Dieses Verfahren wird zur Evaluation einer erfolgreichen Hygiene bei Waschverfahren verwendet.
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Linienlaser Alignment
Ein perfekt eingestellter Linienlaser soll eine homogene Linie abbilden. Dies stellt die Laser-Hersteller vor verschiedene Herausforderungen, wie beispielsweise die Geradheit der Linie, eine homogene Intensitätsverteilung sowie die Orientierung der Laserlinie in Bezug auf das Gehäuse. Um das Ziel einer homogenen Linie zu erreichen, muss eine anamorphe refraktive Optik präzise zu einem kollimierten Strahl aus einem Lasermodul ausgerichtet werden.
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Das FXE Instrument
Femtosekundenschnelle Spektroskopie mit Röntgenstrahlung ist eine Aufgabe des European XFEL, eines 3,4 km langen Röntgenlasers in der Metropolregion Hamburg. Die FXE-Gruppe (Femtosecond X-Ray Experiments) beschäftigt sich u.a. mit zeitaufgelösten Untersuchungen der Dynamik von Festkörpern und Flüssigkeiten. Hierzu wurde ein Röntgen-Emissions-Spektrometer installiert, welches 16 einzelne Beugungskristalle miteinander vereint.
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Probenvermessung
In unserem Beispiel aus der Messtechnik und Analytik sollen hunderte Proben so schnell wie möglich analysiert werden. Bei dieser Anwendung ist nicht die laterale Verfahrgeschwindigkeit sondern die Prozesszeit der Hauptkostenpunkt. Durch die Summe der vertikalen Toleranzen aller Komponenten bedarf es einer individuellen Nachfokussierung der Kamera. Um diese zeitintensive Nachfokussierung zu vermeiden, werden unsere Positioniereinheiten auf maximale Ebenheit gefertigt, montiert und vermessen. Durch diese hohe Präzision von nur wenigen Mikrometern kann in vielen Applikationen auf die Nachfokussierung gänzlich verzichtet werden.
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